时间:2017-08-22 14:26:50
1、选择题 除去下列物质中的杂质(括号中为杂质),采用的试剂和除杂方法错误的是
序号 | 待除杂质 | 试剂 | 除杂方法 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
A | CH3CH2Br(C2H5OH) | 水 | 分液 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
B | C2H6(C2H4) | 酸性KMnO4溶液 | 洗气 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
C | C6H6(Br2) | NaOH溶液 | 分液 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
D | C2H2(H2S) | CuSO4溶液 | 洗气 2、填空题 (6分)在下图所示的实验装置中,A中盛有品红溶液,B 中盛有NaOH溶液。 3、实验题 单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式______________________。 (2)装置A中g管的作用是________;装置C中的试剂是________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是__________________________________。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。 4、实验题 (20分)某化学课外活动小组以铝屑、稀H2SO4、NaOH溶液为主要原料欲制备Al(OH)3沉淀,设计了如下三种方案,见下表。阅读下表并回答下列问题:
(2)本实验要用到NaOH溶液。某学生用已知质量y(g)的表面皿,准确称取 ![]() ![]() ![]() (3)若称取的 ![]() ![]() (4)阅读下列制备Al(OH)3实验步骤,填写空白: ①在烧杯A中加入50mL0.5mol·L ![]() ②在盛有适量稀H2SO4的烧杯B中应放入___________(g)(用含m1的式子表示)质量的铝屑,充分搅拌使铝屑反应完全。 ③在盛有适量浓NaOH溶液的烧杯C中放入____________(g)(用含m1的式子表示)质量的铝屑充分搅拌使铝屑反应完全。 ④将烧杯B和烧杯C中的溶液混和观察到的现象是:_______________________________,反应的离子方程式是:___________________________ (5)过滤时某学生操作如图,请用文字说明图中错误的是: _____________________?。 ![]() (6)把沉淀转移到烧杯中,用蒸馏水洗涤三次再过滤,再洗涤、 干燥得Al(OH)3固体质量为m2(g)计算本实验Al(OH)3的产率是_________________? 5、填空题 实验室要用98%(ρ=1.84g·cm-3)的硫酸配制3.68mol·L-1的硫酸溶液500mL |