时间:2017-07-27 09:04:58
1、填空题 多晶硅生产工艺流程如下：
（1）粗硅粉碎的目的是?。分离SiHCl3 (l)和SiCl4(l)的方法为?。
（2）900℃以上， H2与SiHCl3发生如下反应：SiHCl3 (g)+ H2 (g)
Si (s) + 3HCl (g)? ΔH ＞0，其平衡常数表达式为K = ?。为提高还原时SiHCl3的转化率，可采取的措施有?。
（3）该流程中可以循环使用的物质是?。
（4）SiCl4与上述流程中的单质发生化合反应，可以制得SiHCl3，其化学方程式为?。
参考答案：（1）增大接触面积，加快反应速率，充分反应(2分)?蒸馏(2分)
（2）K= 
?(3分)?升高温度或增大氢气与 SiHC13的物质的量之比或增大氢气浓度(2分)
（3）HCl、H2(2分)
（4）3SiCl4+Si+2H2=4SiHCl3(2分)
本题解析： （1）粗硅粉碎长大了表面积，加快反应速率；SiHCl3和SiCl4均为液态而且互相溶解，根们沸点不同，用蒸馏法分离。
（2）Si为固态，表达式中无Si，使平衡向正反应方向移动，能提高还原时SiHCl3的转化率。
（3））HCl、H2在流程中分别作反应物和生成物，所以可循环使用。
（4）结合流程，对比SiHCl3和SiCl4，可得出反应物还有和H2和Cl2，然后写出化学方程式。
本题难度：一般
2、选择题 一定温度下反应N2(g)+3H2(g)
2NH3(g)达到化学平衡状态的标志是
[? ]
参考答案：A
本题解析：
本题难度：一般
3、选择题 在三个密闭容器中分别充入N2、H2、HCl三种气体，当它们的温度和密度都相同时，这三种气体的压强（p）,从大到小的顺序是
A．p(N2)>p(H2)>p(HCl)
B．p(HCl)> p(N2)> p(H2)
C．p(H2)> p(HCl)> p(N2)
D．p(H2)> p(N2)> p(HCl)
参考答案：D
本题解析：略
本题难度：简单
4、选择题 最近，各国科学家联合研制成功一种新型催化剂，可在常压下将二氧化碳与氢气混合转化为甲烷。在VL容器中进行该转化，相关情况如图所示。下列有关说法不正确的是
A．101KPa、120℃时，该反应的平衡常数表达式
B．断裂lmolC=O、2molH—H所吸收的能量小于形成2molC—H、2molO—H所释放的能量
C．300℃时，从反应开始达到平衡的这段时间，化学反应速率
D．其它条件不变，减小容器体积，二氧化碳的平衡转化率增大，平衡常数不变
参考答案：A
本题解析：A、该反应的方程式为CO2(g)+4H2(g) 
CH4(g)+2H2O(g)，120℃，水为气态，可知表达式错误；B、由图可知，该反应放热，故反应物吸收的总能量小于放出的总能量，正确；C、速率的计算式，正确；D、正反应为体积减小的反应，减小体积，增大压强，平衡正向移动，故转化率增大，平衡常数只与温度有关，正确。
本题难度：一般
5、填空题 研究NO2、、CO等大气污染气体的处理具有重要意义。
利用反应6NO2(g)＋8NH3(g)
7N2(g)＋12 H2O(g)可处理NO2。700℃时，向容积为2L的密闭容器中充入一定量的NO2和NH3, 反应过程中测定的部分数据见下表
| 反应时间/min | n(NO2)/mol | n(NH3)/ mol |
| 0 | 1．20 | 1．60 |
| 2 | 0．90 | ? |
| 4 | ? | 0．40 |
参考答案：（1）0．10mol/(L·min)?C7(N2) ·C12(H2O)/ C6(NO2) ·C8(NH3)? 75%?（2）? ab
本题解析：由方程式可知反应物和生成物的反应计量数之和不相等所以压强不变时达到平衡状态；混合气体的颜色保持不变也表明达到平衡状态；因为反应物和生成物均为气体，气体的质量不变容器的体积不变所以体系的密度始终不变。
本题难度：一般