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1、填空题 工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http:/ ">
时间:2017-02-02 05:21:35
1、填空题 工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060717/h5yf3t4wosf.jpg\" style=\"vertical-align:middle;\">Si3N4(s)+12HCl(g) ΔH<0
某温度和压强条件下,分别将0.3 mol SiCl4(g)、0.2 mol N2(g)、0.6 mol H2(g)充入2 L密闭容器内,进行上述反应,5 min达到平衡状态,所得Si3N4(s)的质量是5.60 g。
(1)H2的平均反应速率是 mol·L-1·min-1。?
(2)平衡时容器内N2的浓度是 mol·L-1。?
(3)SiCl4(g)的转化率是 。?
(4)若按n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=3∶2∶6的投料配比,向上述容器不断扩大加料,SiCl4(g)的转化率应 (填“增大”“减小”或“不变”)。?
(5)在不改变反应条件的情况下,为了提高SiCl4(g)的转化率,可通过改变投料配比的方式来实现。下列四种投料方式,其中可行的是 。?
| 选项 | 投料方式 |
| A | n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=1∶1∶2 |
| B | n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=\" \" 1∶2∶2 |
| C | n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=\" \" 3∶2∶2 |
| D | n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=\" \" 2∶1∶3 ? (6)达到平衡后升高温度,其他条件不变,对平衡体系产生的影响是 (填字母序号)。? A.c(HCl)减少 B.正反应速率减慢,逆反应速率加快 C.Si3N4的物质的量减小 D.重新平衡时c(H2)/c(HCl)增大 参考答案:(1)0.048 (2)0.06 (3)40% (4)减小 本题解析:依据“三部曲”计算 本题难度:一般 2、选择题 放热反应CO(g)+H2O(g) 参考答案:C 本题解析: 本题难度:一般 3、选择题 反应 参考答案:D 本题解析: 本题难度:一般 4、选择题 在密闭容器中有反应mA(g)+nB(g) 参考答案:B 本题解析: 本题难度:一般 5、选择题 一定条件下,可逆反应N2+3H2 参考答案:C 本题解析: 本题难度:一般 |