时间:2017-03-02 23:51:50
1、选择题 下列叙述正确的是(? )
A．酸均不能与酸性氧化物反应
B．玻璃、陶瓷、水泥容器都不能贮存氢氟酸
C．石灰抹墙、水泥砌墙过程的硬化原理相同
D．石灰窑、玻璃熔炉出来的气体的主要成分不相同
参考答案：B
本题解析：HF酸与酸性氧化物SiO2起反应；石灰抹墙硬化过程是Ca(OH)2与CO2反应生成CaCO3，而水泥主要成分是硅酸盐，水泥具有水硬性；石灰窑，玻璃熔炉出来气体的主要成分都是CO2。
本题难度：简单
2、实验题 某课外活动小组实验测得某硅酸盐所含氧化物的质量分数如下表：
| 氧化物 | CaO | Al2O3 | SiO2 | H2O |
| 质量分数 | 0.142 0 | 0.260 2 | 0.459 2 | 0.137 8 |
参考答案：Ⅰ.（1）CaAl2Si3O10·3H2O（或CaAl2H6Si3O13）
（2）CaO·Al2O3·3SiO2·3H2O
Ⅱ.澄清石灰水变浑浊 Ca（OH）2+CO2 ====CaCO3↓+H2O
本题解析：Ⅰ. ?N?（CaO）∶?N?（Al2O3）∶?N?（SiO2）∶?N?（H2O）=
=1∶1∶3∶3。
Ⅱ.萌发种子生命活动，要不断进行呼吸，吸入氧气，释放出二氧化碳，使广口瓶中的二氧化碳浓度显著升高。从漏斗注入清水的目的是使二氧化碳被排入装有澄清石灰水的试管中，二氧化碳与澄清石灰水起反应，可观察到其反应的现象。
本题难度：简单
3、选择题 下列说法正确的是?
A．高纯度的二氧化硅被广泛用于制作计算机芯片
B．粗硅可由二氧化硅还原制得
C．高纯硅是制造光导纤维的原料
D．硅是构成矿物和岩石的主要元素，硅在地壳中的含量在所有的元素中居第一位约占地壳质量的90%
参考答案：B
本题解析：A项：高纯度的单质硅被广泛用于制作计算机芯片，故错；C项：高纯二氧化硅是制造光导纤维的原料，故错；D项：硅在地壳中的含量在所有的元素中居第一位约占地壳质量的27.2%，故错。故选B。
点评：本题考查的是有关硅和二氧化硅的用途的知识，考查的内容都源自于教材中的，熟悉硅和二氧化硅的用途是解决此类问题的关键，学生要注重教材内容的学习。
本题难度：一般
4、选择题 由二氧化硅制高纯硅的流程如下，下列判断中错误的是
A．①②③均属于氧化还原反应
B．H2和HCl均可循环利用
C．SiO2是一种坚硬难熔的固体
D．SiHCl3摩尔质量为135.5g
参考答案：D
本题解析：A．反应①为SiO2+2C=Si+2CO↑，反应②Si（粗）+3HCl=SiHCl3+H2，反应③SiHCl3+H2=Si（粗）+3HCl，三个方程式中元素的化合价均发生变化，均属于氧化还原反应，故A正确；B．生产高纯硅的流程示意图可知，H2和HCl既是反应物，又是生成物，所以可重复利用的物质是H2和HCl，故B正确；C．SiO2是原子晶体，硬度大、熔点高，故C正确；D．SiHCl3摩尔质量为135.5g/mol，故D错误；故选D．
本题难度：一般
5、选择题 单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：①SiO2 + 2C?
Si + 2CO?②Si + 2Cl2
SiCl4?③SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，其中，反应①和③属于
A．化合反应
B．分解反应
C．置换反应
D．复分解反应
参考答案：C
本题解析：反应①属于置换反应；②属于化合反应；③属于置换反应
本题难度：简单