时间:2017-01-27 14:37:22
实验题 单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 | ||||||||||||||||||||||||
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — | ||||||||||||||||||||||||
| 熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | — | — | — | ||||||||||||||||||||||||
| 升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 请回答下列问题： (1)写出装置A中发生反应的离子方程式______________________。 (2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是__________________________________。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次 蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。 实验题 单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
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