时间:2017-01-27 14:19:49
实验题 （16分）
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500 ℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 | ||||||||||||||||||||||||
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — | ||||||||||||||||||||||||
| 熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — | ||||||||||||||||||||||||
| 升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 ? 请回答下列问题： (1)写出装置A中发生反应的离子方程式______________。 (2)装置A中g管的 作用是______________；装置C中的试剂是____________;装置E中的h 瓶需要冷却的理由是______________。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是______________（填写元素符号）。 (4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是： 5Fe2++MnO4-+8H+＝5Fe3++Mn2++4H2O ①滴定前是否要滴加指示剂？_________（填 “是”或“否”），请说明理由__________。 ②某同学称取5.000g残留物后，所处理后在容量中瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10-2mol·L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________________。 实验题 （16分）
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