1、选择题 向2L 1mol/L的Ca(OH)2溶液中通入CO2，当得到1molCaCO3沉淀时，通入CO2的物质的量是……………………………………………………………………………（??）
A．0.5mol
B．2mol
C．3mol ">
时间:2017-01-12 20:16:00
1、选择题 向2L 1mol/L的Ca(OH)2溶液中通入CO2，当得到1molCaCO3沉淀时，通入CO2的物质的量是……………………………………………………………………………（??）
A．0.5mol
B．2mol
C．3mol
D．4mol
参考答案：C
本题解析：略
本题难度：简单
2、选择题 如图为刻蚀在玻璃上的精美的花纹图案，则该刻蚀过程中发生的主要化学反应为(?? )
A．CaCO3＋2HCl=CaCl2＋H2O＋CO2↑
B．NaHCO3＋HCl=NaCl＋H2O＋CO2↑
C．Si＋4HF=SiF4↑＋2H2↑
D．SiO2＋4HF=SiF4↑＋2H2O
参考答案：D
本题解析：因为玻璃中含有SiO2，而SiO2能与氢氟酸发生反应：SiO2＋4HF=SiF4↑＋2H2O，所以可以用氢氟酸来刻蚀玻璃。
本题难度：简单
3、选择题 2010年诺贝尔物理学奖授予英国的两位科学家，以表彰他们在石墨烯材料领域的卓越研究。科学家预测，该材料有可能代替晶体硅在电子工业的地位，从而引发电子工业的新革命。目前晶体硅在电子工业中的作用是
A．制光导纤维
B．制半导体
C．制耐高温材料
D．制硅橡胶
参考答案：B
本题解析：
正确答案：B
A、C、D都不是在电子工业中的应有。
A．SiO2制光导纤维???? B．Si制半导体??? C．Si3N4制耐高温材料???? D．复合材料，制硅橡胶
本题难度：一般
4、实验题 单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/3vnn0nbdf32.jpg\" style=\"vertical-align:middle;\">
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
| 物 质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | － | 315 | － |
| 熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | － | － | － |
| 升华温度/℃ | － | － | 180 | 300 | 162 ? 请回答下列问题： (1)写出装置A中发生反应的离子方程式? ____________________________。 (2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。 (4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2＋＋MnO4－＋8H＋=5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O 滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)，请说明理由______________________。 ②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol·L－1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________。 参考答案：(1)MnO2＋4H＋＋2Cl－ 本题解析：(1)A装置是制备Cl2的，注意要求写的是MnO2与浓盐酸的“离子方程式”。 本题难度：一般 5、选择题 能说明常温下二氧化硅是很坚硬的固体而二氧化碳是气体的原因是???（??） 参考答案：D 本题解析：本题比较两种晶体的物理性质，应该从晶体所属类别入手。由于SiO2是一种空间网状结构的原子晶体，而CO2是靠分子间作用力结合在一起的分子晶体，因此SiO2晶体的熔沸点高、硬度大，而二氧化碳的熔沸点低。 本题难度：简单 |