时间:2017-01-05 21:02:06
计算题 电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。
计算题 电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol -1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。
本题答案：T＜1.24×103K
本题解析：
本题所属考点：【反应热计算】
本题难易程度：【一般】