三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中【有关氧化还原反应的计算】

时间:2016-12-27 11:31:12

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选择题  三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀 气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2mol HNO3,则转移0.2mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体



选择题  三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2mol HNO3,则转移0.2mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

本题答案:D
本题解析:
试题分析:NF3中氮元素化合价为+3价,2/3降低为+2价的NO,1/3升高为+5价的HNO3,为还原剂;A、NF3是氧化剂和还原剂,错误;B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2,错误;C、若生成0.2mol HNO3, 则转移0.4mol电子,错误;D、正确。
考点:考查氧化还原反应概念和原理有关问题。


本题所属考点:【有关氧化还原反应的计算】
本题难易程度:【一般】



Better without gold than without friends. 宁可没有金钱,不可没有朋友.

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