时间:2016-12-26 00:24:37
填空题 (16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3 + 3H2O2= +6H2O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N2+3H2600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060703/s0pbql5zitt.jpg\" style=\"vertical-align:middle;\">2NH3 △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N2和H2，浓度均为c(N2) =\" 0.100mol/L,\" c(H2) = 0.300mol/L，进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060703/2bmovjqvyew.jpg\" style=\"vertical-align:middle;\">
该反应平衡常数的数学表达式为 ；实验②平衡时H2的转化率为_____ 。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：____ ___ 理由： ________
③条件：_______ 理由： ________
填空题 (16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3 + 3H2O2= +6H2O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N2+3H2600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060703/s0pbql5zitt.jpg\" style=\"vertical-align:middle;\">2NH3 △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N2和H2，浓度均为c(N2) =\" 0.100mol/L,\" c(H2) = 0.300mol/L，进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。
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该反应平衡常数的数学表达式为 ；实验②平衡时H2的转化率为_____ 。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______ 理由： ________
③条件：_______ 理由： ________
本题答案：．(16分)
（1）2NH3 + 3H2O2
本题解析：略
本题所属考点：【化学平衡】
本题难易程度：【一般】