1、选择题 光盘是由二氧化硅玻璃材质制成.下列有关推断正确的是
A光盘遇水腐蚀? B光盘遇火会熔化
C光盘遇碱会腐蚀? D二氧化硅是导体
2、选择题 2001年报道硼和镁形成的化合物刷新了金属化合物最高温度的记录。右示意图是该化合物的晶体结构单元：镁原子间形成正六棱柱，且棱柱的上下底面还各有1个镁原子；6个硼原子位于棱柱内（未画出）。则该化合物的化学式可表示为?（?）
A．MgB
B．MgB2
C．Mg2B
D．Mg3B2
3、选择题 某混合气体中可能含有H2、CO、CO2、HCl、NH3和水蒸气中的两种或多种，当混合气体依次通过：①澄清石灰水（无浑浊现象）；②Ba(OH)2溶液（有浑浊现象）；③浓H2SO4（无现象）；④灼热的氧化铜（变红）；⑤无水硫酸铜（变蓝）。对该混合气体成分判断正确的是(? )
A．一定没有CO2，肯定有H2
B．一定有CO、CO2和水蒸气
C．一定有H2、CO2和HCl
D．可能有CO2、NH3和水蒸气
4、填空题 请回答下列问题:
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/4usn5pqwsha.png\" style=\"vertical-align:middle;\">还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/fbji3t0rdla.jpg\" style=\"vertical-align:middle;\">
①写出由纯![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/hgkwg4lc44h.png\" style=\"vertical-align:middle;\">制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/hgkwg4lc44h.png\" style=\"vertical-align:middle;\">遇水剧烈反应生成![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/djspt1s1vwt.png\" style=\"vertical-align:middle;\">、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/nykkgll3oo1.png\" style=\"vertical-align:middle;\">还原![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/hgkwg4lc44h.png\" style=\"vertical-align:middle;\">过程中若混入![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/vm311s45fu0.png\" style=\"vertical-align:middle;\">可能引起的后果是____________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。
A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释?。
5、选择题 工业上制造金刚砂(SiC)的反应的化学方程式为SiO2+3C![]()
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/sbzifxslwrf.gif\" style=\"vertical-align:middle;\">SiC+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂与还原剂的物质的量之比是(? )
A．1∶2? B．2∶1
C．1∶1? D．3∶5
