1、填空题 硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
时间:2019-07-04 00:34:55
1、填空题 硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/t4gclp34gnc.png\" style=\"vertical-align:middle;\">
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式____________________；H2还原SiHCl3过程中若混有O2，可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是? ( )。
A．单质硅化学性质稳定，但可以被强碱溶液腐蚀
B．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
D．光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸，振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时，需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内，这种材料是________(填字母)。
A．高温结构陶瓷? B．生物陶瓷 ? C．导电陶瓷
2、选择题 下列有关说法正确的是（?）
A．CO2、CH4、N2等均是造成温室效应的气体
B． 14C可用于文物鉴定，14C与12C互为同素异形体
C．二氧化硅不与任何酸反应，可用石英制造耐酸容器
D．精炼粗铝时要清除坩埚表面的石英砂，铝与石英砂反应的方程式为600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/kznqdahmcwv.png\" style=\"vertical-align:middle;\">
3、填空题 硅在地壳中的含量较高，硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用。回答下列问题：
（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的传统的无机非金属材料，其中生产普通玻璃的主要原料有?。
（2）高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如下：600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060713/xmnniyj1m1m.png\" style=\"vertical-align:middle;\">
①工业上用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生产碳化硅，则在电弧炉内可能发生的反应的化学方程式为?。
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，粗硅生成SiHCl3的化学反应方程式?。
（3）有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和?；SiHCl3极易水解，其完全水解的产物为?。
| 物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸点/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
4、选择题 关于硅及其化合物的用途，不正确的是
A．硅胶可用作干燥剂
B．二氧化硅可用作计算机的芯片
C．硅酸钠是制备木材防火剂的原料
D．用纯碱、石灰石、石英为原料可制普通玻璃
5、计算题 将一定量的碳和氧气放入一密闭容器中燃烧，待氧气耗尽时，得到10g气体，将该气体通过足量石灰水后，气体剩余5.6g。试计算反应前密闭容器中有氧气多少g?