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1、选择题 制备单质硅时，主要化学反应如下
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时间:2019-07-03 23:08:11
1、选择题 制备单质硅时，主要化学反应如下
①600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060720/3rpd0izeaap.png\" style=\"vertical-align:middle;\">? ②
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060720/euoqcu2k0vw.png\" style=\"vertical-align:middle;\">? ③
600)makesmallpic(this,600,1800);\' src=\"http://www_php168_com/91files/2016060720/ag4edy5vvj4.png\" style=\"vertical-align:middle;\">下列对上述三个反应的叙述中，不正确的是（ ?)
A．①③为置换反应
B．①②③均为氧化还原反应
C．②为化合反应
D．三个反应的反应物中硅元素均被氧化
2、选择题 根据下列反应判断有关物质的还原性由强到弱的顺序正确的是
①H2SO3＋I2＋H2O＝2HI＋H2SO4
②2FeCl3＋2HI＝2HCl＋2FeCl2＋I2
③3FeCl2＋4HNO3＝2FeCl3＋NO↑＋2H2O＋Fe(NO3)3
[? ]
A．H2SO3 > I- > Fe2+ > NO
B．I- > H2SO3 > Fe2+ > NO
C．Fe2+ > I- > H2SO3 > NO
D．NO > Fe2+ > H2SO3 > I-
3、填空题 现向含6 mol KI的硫酸溶液中逐滴加入KBrO3溶液，整个过程中含碘物质的物质的量与所加入KBrO3的物质的量的关系如下图所示。请回答下列问题600)makesmallpic(this,600,1800);\' style=\"VERTICAL-ALIGN: middle\" border=\"0\" src=\"http://www_php168_com/91files/2016060720/sidp33pgjus.gif\">
(1)b点时，KI反应完全，则消耗的氧化剂与还原剂物质的量之比为________，还原产物是________。
(2)已知b→c过程中，仅有一种元素发生化合价变化，写出并配平该反应的离子方程式_______________。
(3)①已知反应：2BrO3-+I2→2IO3-+Br2；有同学由此得出氧化性：I2> Br2的结论，你认为是否正确，并说明理由：_____________________
②n(KBrO3) =4时，对应含碘物质的化学式为_________。
(4)含amol KI的硫酸溶液所能消耗n(KBrO3)的最大值为______
4、选择题 用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板上的铜，所得的溶液中加入铁粉。对加入铁粉充分反应后的溶液分析合理的是
A．若无固体剩余，则溶液中一定有Fe3＋
B．若溶液中有Cu2＋，则一定没有固体析出
C．若有固体存在，则溶液中一定有Fe2＋
D．若溶液中有Fe2＋，则一定有Cu析出
5、填空题 硒元素具有抗衰老、抑制癌细胞的功能，其化学性质与硫相似．硒的元素符号为Se，相对原子质量为79，对应的某种含氧酸的化学式为H2SeO3．
（1）这种酸应读作______；
（2）若将二氧化硫通入H2SeO3的溶液中，会有Se析出，写出该反应的化学方程式：
______；
（3）又已知2HCl+H2SeO4═H2SeO3+Cl2+H2O，则H2SeO4、H2SeO3、H2SO3的氧化性由强到弱的顺序是______．