1、实验题 高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，是制备半导体的重要材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备：用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含Fe、Al、 ">
1、实验题 高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，是制备半导体的重要材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备：用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含Fe、Al、B、P等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。
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相关信息：a．四氯化硅遇水极易水解；b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物；c．有关物质的物理常数见下表：
物质
| SiCl4
| BCl3
| AlCl3
| FeCl3
| PCl5
|
沸点/℃
| 57.7
| 12.8
| —
| 315
| —
|
熔点/℃
| －70.0
| －107.2
| —
| —
| —
|
升华温度/℃
| —
| —
| 180
| 300
| 162
|
?
请回答下列问题：
（1）仪器e的名称为____________，装置A中f管的作用是_______________________________________，其中发生反应的离子方程式为_____
? ____________________________________?_______。
（2）装置B中的试剂是____________。
（3）某学习小组设计了以下两种实验方案：方案甲：g接装置Ⅰ；方案乙：g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处，请你评价后填写下表。
?
（4）在上述（3）的评价基础上，请设计一个合理方案：___________
?________
?。
（5）通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是
?（填写元素符号）。
2、选择题 制造普通铅笔蕊的物质是
[? ]
A．铅
B．铅粉和石墨粉的混合物
C．石墨粉
D．石墨粉和粘土粉的混合物
3、选择题 下列离子方程式书写不正确的是（?）
A．大理石跟盐酸反应：CaCO3+2H+====Ca2++H2O+CO2↑
B．石灰水中通入CO2：CO2+Ca2++2OH-====CaCO3↓+H2O
C．在水玻璃（Na2SiO3)溶液中加入盐酸：Na2SiO3+2H+====H2SiO3↓+2Na+
D．二氧化硅与烧碱溶液反应：SiO2+2OH-====![]()
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4、选择题
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生产1.00kg纯硅的总反应热为：（?）
A．2.43 × 104 kJ
B．—2.35 × 104 kJ
C．—2.23 × 104 kJ
D．—2.14× 104 kJ
5、选择题 在150℃时碳酸铵可以受热完全分解，则其完全分解后所产生的气态混合物的密度是相同条件下氢气密度的几倍?（?）
A．96倍
B．48倍
C．12倍
D．32倍
