时间:2017-08-26 00:42:14
1、选择题 除去CO2中的HCl杂质最好是将混合气体通过足量的( )
A.饱和NaOH溶液
B.饱和NaHCO3溶液
C.饱和Na2CO3溶液
D.水
参考答案:A.氢氧化钠会吸收二氧化碳和氯化氢,把二氧化碳也除去了,故A错误;
B.NaHCO3溶液能与盐酸反应生成氯化钠、水和二氧化碳,在除去氯化氢的同时增加了二氧化碳的量,故B正确;
C.Na2CO3溶液能够与二氧化碳反应,把二氧化碳也除去了,故C错误;
D.二氧化碳在水中的溶解度较大,把二氧化碳也除去了,故D错误.
故选B.
本题解析:
本题难度:简单
2、选择题 下列除杂方案错误的是
选项 | 被提纯的物质 | 杂质 | 除杂试剂 | 除杂方法 |
A. | CO(g) | CO2(g) | NaOH 溶液、浓H2SO4 | 洗气 |
B. | NH4Cl(aq) | Fe3+(aq) | NaOH溶液 | 过滤 |
C. | Cl2(g) | HCl(g) | 饱和食盐水、浓H2SO4 | 洗气 |
D. | Na2CO3(s) | NaHCO3(s) | — | 灼烧 参考答案:B 本题解析:A项依次通过NaOH 溶液、浓 H2SO4,分别除去CO2,水蒸气,正确;B项NaOH溶液与NH4Cl也反应,错误;C项依次通过饱和食盐水、浓H2SO4,分别除去HCl,水蒸气,正确;D项通过灼烧能使NaHCO3固体分解生成Na2CO3,正确。 本题难度:一般 3、选择题 下列叙述正确的是(NA为阿伏伽德罗常数) 参考答案:B 本题解析:分析:A、苯在标准状况下不是气体; 本题难度:简单 4、填空题 多晶硅(硅单质的一种)被称为“微电子大厦的基石”,制备中副产物以SiCl4为主,它环境污染很大,能遇水强烈水解,放出大量的热。研究人员利用SiCl4水解生成的盐酸和钡矿粉(主要成分为BaCO3,且含有铁、镁等离子),制备BaCl2 ? 2H2O,工艺流程如下: 参考答案:(1)SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl (2分,写成H2SiO3且配平可给1分) 本题解析:(3)常温下Fe3+、Mg2+ 完全沉淀的pH分别是3.4、12.4,加钡矿粉调节pH=7的另一作用为使Fe3+ 完全沉淀 本题难度:困难 5、选择题 在标准状况下,将1克氦气,11克CO2和4克O2混合,所得混合气的体积约为 参考答案:D 本题解析:试题分析:在标准状况(273.15 K、101kPa)下,任何气体的摩尔体积约为22.4 L,所以该混合气的体积 本题难度:困难 |